是由激光激发特殊材料产生的紫外光。

光刻机有激光设备，但并不是依靠激光制造芯片的。以目前主流duv和euv光刻机为例，duv的光源是由电子束轰击惰性气体氖产生深紫外光，其波长为193纳米。而euv是激光轰击锡滴微粒产生极紫外光，其波长是13.5纳米。所以说，光刻机并不是激光，但会用到激光。