可以。

采用DUV是指 193nm波长的那批光刻机，分干式和液浸式。

该工艺基本上采用液浸式一次曝光可以搞定45-28的工艺，再往下，例如14纳米和7纳米，是依然用这种光刻机的采取多重曝光技术实现。台积电和三星，用DUV生产14纳米7纳米，都是如此手段。