duv厉害。DUV光刻机同EUV光刻机相比，二者还是有着不小的差距。在光源、光路系统与镜头三大方面，二者有着很大的不同。

首先，二者发光原理不同。

DUV光刻机光源为准分子激光，而EUV光刻机则是激光激发等离子来发射EUV光子。通过不同方式，二者发出的光源也不同。其中，DUV光刻机的波长能达到193纳米，而EUV光源的波长则为13.5纳米。

二者之间的差距十分明显，波长越短，所能实现的分辨率越高。这让EUV光刻机能够承担高精度芯片的生产任务。