EUV也就是“极深紫外线”的意思，而DUV是“深紫外线”的意思，通过字面就知道EUV看上去就比DUV高级，实际上也是如此。DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。事实上EUV光刻机的出现，确实是帮助业界突破7nm制程的一个关键。