duv光刻机是1995年做出来的。

duv光刻机指的是193nm深紫外光光源的光刻机。1995年，Cano着手300mm晶圆曝光机，推出EX3L和5L步进机ASML推出FPA2500，193nm波长步进扫描曝光机。光学光刻分辨率到达70nm的“极限”。日本的技术是干式光刻机，做到165nm已经无法突破了，后来台积电的林本坚于2002年研制出浸润式光刻机，也是目前保有量最大的duv光刻机。