主要是光源波长不同。

首先要纠正没有14纳米和7纳米光刻机，而是14纳米和7纳米芯片。目前最高端光刻机是13.5纳米极紫外光光源euv光刻机，其次是193纳米深紫外光光源duv光刻机。euv光刻机可以制造22纳米以下制程芯片，但考虑到效率成本因素更多会用于7纳米及以下制程芯片。