世界光刻机目前根据不同工艺可以分别做到 14 nm 和 5nm以下。

目前最高端的EUⅤ光刻机波长13.5nm，曝光精度14nm，釆用平面工艺，也就是14nm，釆用finfet工艺可达5nm以下。

荷兰ASML公司是全球最大的光刻机制造商，也是全球唯一可以提供EUV光刻机的厂商，在全球高端光刻机市场处于垄断地位。