上海微电子成立于2002年，2007年就研发成功了国内首台90nm工艺光刻机。同时，近十几年来，我国一直在致力于研究光刻机，但是取得的成果不容乐观。如今，13年后，国产光刻机企业还是停留在90nm工艺光刻机，跟ASML、尼康等具备28nm以上工艺光刻机的企业相比，差距还是比较大的，尤其是跟asml7nmEUV的差距更大。