根据其官网介绍，当前最先进的光刻机当属600系列光刻机，最高的工艺制程能够达到90nm。通过对比不难发现，国内光刻机与ASML公司之间差距巨大。据相关消息透露，2021年至2022年将会交付第一台28nm工艺的国产沉浸式光刻机。

光刻机内部涉及精密元器件较多，即便是ASML公司也是通过全球采购来解决该问题，例如美国的光源，德国的镜头等。短期内，国内光刻机企业想要追赶上ASML公司并不现实。国产光刻机短期内无法赶超，芯片代工企业能否提供助力呢