光刻机是芯片制造的核心设备之一，按照用途可以分为好几种。45nm光刻机指的是光刻机曝光系统，光刻机曝光系统是光刻机中软硬件一体的关键部件，负责光刻工艺中的对准曝光工序光刻机曝光系统研发工作属于国家02专项。