纳米制程越小，意味其效能愈强，耗能更少，所需的技术水平亦更高。
1、40纳米
结合了先进的浸入式光刻技术，应力技术，超浅结技术以及低介电常数介质。
用途：手机基带及应用处理器，平板计算机多媒体应用处理器，数字电视，机顶盒，游戏及其他无线互联应用。
2、28纳米
包含传统的多晶硅和后闸极的高介电常数金属闸极制程。
用途：智能手机、平板计算机、电视、机顶盒和互联网等移动计算及消费电子产品领域。
3、14纳米
最早是由英特尔于2014年制造，并使用了多重图形曝光模式。
用途：5G、高性能计算、人工智能、物联网、消费电子及汽车电子等新兴领域。
4、10纳米
与上代14纳米工艺相比，10纳米技术可以减少30%的芯片尺寸，同时提升性能27%以及降低40%的功耗。
用途：优化移动设备的机身内部结构，如增加电池或是实现更轻薄的设计等，并改善电池续航能力。
