光刻机的紫光是由准分子激光轰击锡滴靶材产生的。

最早光刻机的光源是采用汞灯产生的紫外光源。随后,业界采用了准分子激光的深紫外光源。将波长进一步缩小到ArF的193nm,既duv光刻机的深紫外光光源。这之后,业界开始采用极紫外光源(EUV:ExtremeUltravioletLight)来进一步提供更短波长的光源。目前主要采用的办法是将准分子激光照射在锡等靶材上,激发出13.5nm的光子,作为光刻机光源,产生的就是极紫外光。