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世界上首台用紫外光源实现了22纳米分辨率的光刻机。突破了多项关键技术,其采用365纳米波长光源,单次曝光最高线宽分辨力达到22纳米,结合多重曝光技术后,可用于制造10纳米级别的芯片!

中国对于技术上的封锁依旧还有很多没有突破,尤其是在半导体领域的,不过,中国人天生就能吃苦耐劳,就连现在国内也有了自己的“国产芯片”,再也不用处在他人屋檐下苟活。