美国IBM于5月宣布已成功进行2纳米芯片的试制。

另一方面，关于2纳米以下量产不可或缺的新一代EUV（极紫外）光刻设备，正在与荷兰ASML控股推进共同开发项目，日本东京电子也参与其中。微电子研究中心的首席执行官Luc Van den hove针对项目的进度透露，“计划到2023年初推出试制机，还有企业寻求2026年实现量产”。