不能生产5纳米芯片。

div光刻机一般指的是以193纳米深紫外光为光源的浸润式光刻机，属于第四代光刻机。其加工范围大致为22-193纳米，22纳米以上为euv光刻机加工。但随着光刻机应用技术的进步，duv光刻机目前在14纳米工艺制程已经比较成熟，甚至可以生产趋近于7纳米的芯片，当然良品率非常低，目前无法商用生产。所以duv光刻机不可以生产5纳米芯片。