世界顶级光刻机目前能达到3纳米。

目前三星和台积电能做到3纳米级芯片。在2021年国际固态电路会议(ISSCC 2021)开场线上专题演说时,台积电董事长刘德音指出,台积电3纳米制程依计划推进,3纳米及未来主要制程节点将如期推出并进入生产。台积电3纳米制程预计今年下半年试产,明年下半年进入量产。三星在和新思科技深入合作之后,它们还一起成功地开发出来了GAA架构。在GAA架构的支持之下,3纳米制程芯片才能够顺利地完成了流片测试。