纳米光学最发达的国家

世界顶级光刻机目前能达到3纳米。

目前三星和台积电能做到3纳米级芯片。在2021年国际固态电路会议（ISSCC 2021）开场线上专题演说时，台积电董事长刘德音指出，台积电3纳米制程依计划推进，3纳米及未来主要制程节点将如期推出并进入生产。台积电3纳米制程预计今年下半年试产，明年下半年进入量产。三星在和新思科技深入合作之后，它们还一起成功地开发出来了GAA架构。在GAA架构的支持之下，3纳米制程芯片才能够顺利地完成了流片测试。

乌克兰没有光刻机，最尖端光刻机由荷兰ASML公司制造。光刻机是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上。高端光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML，日本Nikon和日本Canon三大品牌为主。

最发达的是德国、日本、美国、中国等国家。

纳米光学最发达的是德国、日本、美国、中国等国家。像光刻机这种代表人类纳米技术最高成就的光学设备，有能力制造相关光学零件组的就是这些国家。比如euv、duv光刻机的镜头组，就是采用德国蔡司镜头组。像射电望远镜这种精密光学仪器也仅有中美等国可以制造。

中国最少要20年左右才能造出2纳米左右的光刻机！现在世界上最先进的光刻机制造厂家是荷兰的阿斯麦公司，他最先进的光刻机是13.5nm光源的EUV光刻机，使用台积电最先进的生产工艺现阶段能达到3nm工艺节点。中国最先进的光刻机是上海微电子90nm光刻机，与世界先进水平差距比较大！

目前全球最先进的光刻机已经可以实现5nm的工艺制程了，它是荷兰ASML公司的极紫外光刻机（EUV），是目前全球最顶尖的光刻机设备。

中国目前最先进的光刻机应该是22nm的，它的关键部件可以实现国产化了。但中国已经可以实现14nm芯片的量产了，这是中芯国际取得的一个重大成绩。