可以通过压缩光源波长来提高精度生产7nm。

193nm光刻机为深紫外光光源光刻机，常用的是duv浸润式投影光刻机。所谓浸润式就是利用水的折射把深紫外光波长从193nm压缩到134nm。而投影利用镜头组把掩膜板缩小到晶圆上，再利用多次曝光技术制造出7nm芯片。